日期：2023-02-15171
海控科技在期刊《材料科学与工程学报》于2019年第1期第37卷发表了《制备工艺参数对无氢类金刚石薄膜结构及光学性能的影响》论文，该论文属于国家自然科学基金资助项目（51562008），国家重点研发计划资助项目（2016YFC0700804），海南省重点研发计划资助项目（ZDYF2016017）科研成果。
采用射频磁控溅射技术在玻璃基底和单晶硅片上制备了无氢DLC薄膜。采用多种技术手段表征了不同工艺参数下制备的DLC薄膜的结构及光学性能。
结果表明，溅射功率、工作气压、基底温度和氩气流量的变化对薄膜结构、透过率和光学带隙有较大影响。薄膜内部sp3键含量、可见光透过率及光学带隙都随溅射功率或基底温度的增加而减小，随工作气压的增大而增加，随氩气流量的增加先增大后减小。在工作气压为2.0Pa时，可制备出ID／IG为0.86、可见光区平均透过率为85%、光学带隙为1.68eV的 DLC薄膜。
